【介绍】：
TG2U光刻机应用于LSI、传感器、表面波元件、磁泡、微波、CCD等。
【评论】：
光刻机TG2U技术参数：
1、模板尺寸：
a．100×100×2-3mm；
b．75×75×2-3mm：
2．硅片尺寸：Φ50-Φ75mm，实际线宽3-4цm；
3．模板与硅的位移对比：
a．X、Y≥±2．5mm；
b．θ(旋转)≥±5°；
4．支撑台（硅）Z轴旋转：粗调360°，微调±5；
5.工作台综合移动范围：X、Y综合移动范围Φ75mm；
6．球基台与模板间距：0-7mm；
7．曝光系统：GCQ200W过高压球Hg，曝光波长：300～436nm；
8、波长能量不小于407nm；7mw／cm；
9．不平整度在Φ75mm以内：±5％：
10．照明波长：≈545nm；
11．曝光时间：O．01秒-99．99分钟；
12．双目对焦范围：13mm；
13．双目变焦：
A。双目：lOX，16X；
b．平场物镜：6X，9X，15X；
C。总变焦：60X-240X；
14．真空接触压力：≥O．7Kgf；
15．电源供应：
a．频率：50HZ(Z)；
b．旋转输入电压：190V-230V；
c．功耗：≤300VA；
16．外形尺寸：1000X850X980mm（2盒）
17．重量：≈200Kg；
(1) 真空源：≥450mm Hg；
(2) 供气稳定装置如下
补充：如果用户有特殊要求，请与我们联系。
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