TG2U型光刻机

         参数

         适用的掩模尺寸

         a.100X100X2－3mm；b.75X75X2—3mm；c.63X63X2—3(选购)；

         适用的硅片尺寸

         φ35—75mm

         光刻图形线条

         3-4μm, 最细可达2μm

         掩模与硅片之间的相对位移范围

         X/Y±2.5mm,(族转) ±6°

         承片台(硅片)绕主轴旋转

         粗调360度,可微调

         承片工作台综合移动范围

         X,Y合成φ75mm

         承片台的球座平面至掩模板面升降

         0—7.5mm

         曝光灯源

         GCQ200W超高压汞灯，曝光波长，300―436nm

         曝光系统能量不低于

         7mw

         曝光系统的照度均匀度在φ75mm范围内

         ±5％

         显微镜的照明波长

         ≈545nm

         曝光时间控制范围

         0.1秒—99分

         双目显微镜的放大倍数

         a.目镜共二种:10X,16X；b.平视场物镜共三种:6X,9X,15X；c.合成放大倍率:60X—240X；

         真空接触压力

         ≥0.7kgf

         装箱尺寸

         1000X850X980mm(2只)

         装箱重量

         200kg