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TG2U型光刻机主要技术参数见下表:
项目 | 参数 |
适用的掩模尺寸 | a.100X100X2-3mm;b.75X75X2—3mm;c.63X63X2—3(选购); |
适用的硅片尺寸 | φ35—75mm |
光刻图形线条 | 3-4μm, 最细可达2μm |
掩模与硅片之间的相对位移范围 | X/Y±2.5mm,(族转) ±6° |
承片台(硅片)绕主轴旋转 | 粗调360度,可微调 |
承片工作台综合移动范围 | X,Y合成φ75mm |
承片台的球座平面至掩模板面升降 | 0—7.5mm |
曝光灯源 | GCQ200W超高压汞灯,曝光波长,300―436nm |
曝光系统能量不低于 | 7mw |
曝光系统的照度均匀度在φ75mm范围内 | ±5% |
显微镜的照明波长 | ≈545nm |
曝光时间控制范围 | 0.1秒—99分 |
双目显微镜的放大倍数 | a.目镜共二种:10X,16X;b.平视场物镜共三种:6X,9X,15X;c.合成放大倍率:60X—240X; |
真空接触压力 | ≥0.7kgf |
装箱尺寸 | 1000X850X980mm(2只) |
装箱重量 | 200kg |
注:用户有何特殊要求可协商。
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