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TG2U型光刻机

数量:
产品特点: TG2U型光刻机是制造中,大规模集成电路,传感器,表面波元件,磁泡,微波和CCD等器件的重要光刻设备。 欢迎您联系我们获得光刻机(TG2U型)的更多信息。

 TG2U型光刻机主要技术参数见下表:

 

                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                       
       
       项目
       

         参数

     
       

         适用的掩模尺寸

     
       

         a.100X100X2-3mm;b.75X75X2—3mm;c.63X63X2—3(选购);

     
       

         适用的硅片尺寸

     
       

         φ35—75mm

     
       

         光刻图形线条

     
       

         3-4μm, 最细可达2μm

     
       

         掩模与硅片之间的相对位移范围

     
       

         X/Y±2.5mm,(族转) ±6°

     
       

         承片台(硅片)绕主轴旋转

     
       

         粗调360度,可微调

     
       

         承片工作台综合移动范围

     
       

         X,Y合成φ75mm

     
       

         承片台的球座平面至掩模板面升降

     
       

         0—7.5mm

     
       

         曝光灯源

     
       

         GCQ200W超高压汞灯,曝光波长,300―436nm

     
       

         曝光系统能量不低于

     
       

         7mw

     
       

         曝光系统的照度均匀度在φ75mm范围内

     
       

         ±5%

     
       

         显微镜的照明波长

     
       

         ≈545nm

     
       

         曝光时间控制范围

     
       

         0.1秒—99分

     
       

         双目显微镜的放大倍数

     
       

         a.目镜共二种:10X,16X;b.平视场物镜共三种:6X,9X,15X;c.合成放大倍率:60X—240X;

     
       

         真空接触压力

     
       

         ≥0.7kgf

     
       

         装箱尺寸

     
       

         1000X850X980mm(2只)

     
       

         装箱重量

     
       

         200kg

     

 注:用户有何特殊要求可协商。

按照美国

   
    

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